小型等離子裝置

更新時(shí)間：2024-06-09

訪問(wèn)量：1239

廠商性質(zhì)：代理商

生產(chǎn)地址：

簡(jiǎn)要描述：

PiPi小型等離子裝置介紹
高頻輸出 200W,反應(yīng)腔 W130×D130mm
經(jīng)濟(jì)型、較適合于研究開(kāi)發(fā)用小型等離子清洗機(jī)。
特點(diǎn)
● 經(jīng)濟(jì)型等離子清洗機(jī)
● 簡(jiǎn)單的等離子處理操作
● 等離子模式為RIE模式

在線(xiàn)詢(xún)價(jià) 聯(lián)系我們

產(chǎn)品介紹

PiPi小型等離子裝置介紹

高頻輸出 200W,反應(yīng)腔 W130×D130mm。

經(jīng)濟(jì)型、適合于研究開(kāi)發(fā)用小型等離子清洗機(jī)。

特點(diǎn)

● 經(jīng)濟(jì)型等離子清洗機(jī)

● 簡(jiǎn)單的等離子處理操作

● 等離子模式為RIE模式

用途

● 去除有機(jī)物

● 樹(shù)脂/膜等表面改質(zhì)

● 改善粘接效果

● 提高親水性

● 去除金屬氧化物

● 蝕刻

等離子為氣體發(fā)生電離狀態(tài)，形成帶有正電的離子及帶有負(fù)電的電子狀態(tài)。等離子為帶有高能量、反應(yīng)性非常高的狀態(tài)，其容易與物質(zhì)表面進(jìn)行反應(yīng)的特性被廣泛使用。

等離子RIE（Reactive Ion Etching 方式）

RIE是去除物體表面的有機(jī)物污垢，同時(shí)去除無(wú)機(jī)物的合適的清洗方式。

RIE方式為加速離子層中的陽(yáng)離子，沖擊污染表面的物理性清洗方式。

PiPi小型等離子裝置規(guī)格

型號(hào)	PM100
等離子方式	RIE模式
電極構(gòu)造	平行平板式
高頻輸出	Max200W
頻率	13.56MHz
電極尺寸	W130×D130mm
外形尺寸	W438×D520×H565mm
反應(yīng)氣體	Ar
填充氣體	N2或干燥空氣
反應(yīng)氣體流量計(jì)	流量計(jì)
控制方式	程序控制
電源	單相100V
真空泵（選配）	油泵 135L/min（50Hz）